半导体第五讲硅片清洗(4课时)
2本节课主要内容硅片清洗湿法清洗:Piranha,RCA (SC-1,SC-2),HF:H2O物理清洗王法清洗:气相化学吸杂三步骤:激活,护散,俘获碱金属:PSG,超净化十SiN钝化保护其他金属:本征吸杂和非本征吸杂大...
向65nm工艺提升中的半导体清洗技术
电子工业专用设备专题报道Equipment for Electronic Products ManufacturingEPE向下一代65m技术节点迈进中,新结构、新靠性不会因污染的影响而下降。此外,湿法批处理材料对于清洗设备不断提出...
化学机械抛光CMP技术的发展应用及存在问题
2QMP技术无研磨膏QMP、终点检测、自动输送接口、干法清洗QP技术的目的是消除芯片表面的高点及波浪圆片等,同时,对于0.18m或更小图形尺寸的新材形。QMP的基本原理是将圆晶体片在研磨浆(如含有...
裸芯片封装技术的发展与挑战
第8卷第9期电子与封装方式发展.微电子封装将从有封装、少封装向无封装MCM中直接使用裸芯片缩短了用于电路连接方向发展,因此裸芯片封装技术便应运而生。的键合引线长度,使得系统中的通电路径长...
芯片研发过程介绍
芯片设计公司设计公司或第三方公司应用系统设计芯片可上市销确定芯片要求应用方案开发售开发平台原型开发与验算法设计芯片成测证芯片封装摸拟芯片设计数字代码开发试验证通圆片中测5片验证过过...
园林资料员一本通
园林学习网〓htp:/www.ylstudy.com=工程洽商记录.25材料、构配件检查记录.26设备、配(备)件检查记录.27主要原材料及构配件出厂证明及复试报告目录28见证记录.29土壤压实度(管沟类)试验记录3...
新型半导体清洗剂的清洗工艺
778半导体学报23卷的自然氧化膜去掉,以利于去除包埋于氧化层内的2.1HF稀溶液在DGQ系列清洗工艺中的作用金属和有机污染物.为了确定HF稀溶液在DGQ系列清洗工艺中2.2使用条件下清洗剂浓度的选取的...