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IC封装测试工艺流程-学行智库

IC封装测试工艺流程

imart360震坤行Introduction of IC Assembly ProcessIC封装工艺简介Al right reserved Shanghai Imart 360
6.3-集成电路制造工艺技术-学行智库

6.3-集成电路制造工艺技术

微电子学:Microelectronics>微电子学—微型电子学>核心—集成电路>关键词:氧化,扩散,光刻,刻蚀,离子注入;MOSFET6然北京大学
半导体工艺技术-学行智库

半导体工艺技术

目录·第一章:半导体产业介绍·第二章:器件的制造步骤·第三章:晶圆制备第四章:芯片制造·第五章:污染控制·第六章:工艺良品率
半导体晶圆自动清洗设备-学行智库

半导体晶圆自动清洗设备

EPE电子工业专用设备Equipment for Electronic Products Manufacturing专题报道·水冲洗,依次去除晶圆表面各杂质。半导体湿法清洗工艺中,常用的清洗腐蚀液见从设备方面,自动清洗设备与手动清...
PVD-Process-introduction-TJ050419-学行智库

PVD-Process-introduction-TJ050419

Outline1.IC Typical Schematic2.PVD Technology3.AlCu PVD4.Salicide PVD5.Barrier PVD6.WCVD
半导体工业简介-简体中文..-学行智库

半导体工业简介-简体中文..

课程大纲1.叙述目前半导体工业的经济规模与工业基础。2.说明IC结构,并且列出5个积体年代。3.讨论品圆及制造晶圆的5个主要阶段。4.叙述与讨论晶圆制造的改进技术之3项重要趋势。5.说明临界尺寸(...
666化学机械抛光技术的研究进展-学行智库

666化学机械抛光技术的研究进展

第6期雷红,等:化学机械抛光技术的研究进展·495能的重要因素.Applied materials(美)、Ebara(日本)、IPEC Planar随者电子产品表面质量要求的不断提高,表面(美)、Speed Fam(美)、Strasbaugh(美...
集成电路设计常识-山大暑期学校-集成电路-学行智库
半导体封装制程及其设备介绍-学行智库

半导体封装制程及其设备介绍

半导体封装制程概述半导体前段晶圆waferf制程↓半导体后段封装测试封装前段(B/G-MOLD)一封装后段(MARK-PLANT)一测试封装就是將前製程加工完成後所提供晶圓中之每一顆C晶粒獨立分離,並外接信號...
半导体-第十四讲-CMP-学行智库

半导体-第十四讲-CMP

硅片的表面起伏问题与解决方案→化学机械平坦化CMPCMP主要影响因素工艺参数因素与选择抛光液相关问题探讨