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化学机械抛光CMP技术的发展应用及存在问题-学行智库

化学机械抛光CMP技术的发展应用及存在问题

2QMP技术无研磨膏QMP、终点检测、自动输送接口、干法清洗QP技术的目的是消除芯片表面的高点及波浪圆片等,同时,对于0.18m或更小图形尺寸的新材形。QMP的基本原理是将圆晶体片在研磨浆(如含有...
集成电路EDA设计概述-学行智库

集成电路EDA设计概述

EDA技术的范畴电路设计PCB设计模拟芯片数字芯片芯片电路设计数模混合芯片本课程内容!设计输入逻辑综合PLD设闭仿真芯片设计编程下载1C版图设计
裸芯片封装技术的发展与挑战-学行智库

裸芯片封装技术的发展与挑战

第8卷第9期电子与封装方式发展.微电子封装将从有封装、少封装向无封装MCM中直接使用裸芯片缩短了用于电路连接方向发展,因此裸芯片封装技术便应运而生。的键合引线长度,使得系统中的通电路径长...
芯片知识介绍-学行智库

芯片知识介绍

晶片基本知识介绍乳SUNSUNLIGHTING网雪国内芯片厂家现状
半导体CMP工艺介绍-学行智库

半导体CMP工艺介绍

Introduction of CMP目录*CMP的发展史*CMP简介*为什么要有CMP制程*CMP的应用米CMP的耗材*CMP Mirra-Mesa机台简况
半导体工艺-学行智库

半导体工艺

半导体元件制造过程可分为。前段t(Front End)制程晶圆处理制程(Wafer Fabrication;简称Wafer Fab)晶圆针测制程(Wafer Probe);·後段(Back End)构装(Packaging)、测试制程(Initial Test and Fina...
集成电路版图设计5-学行智库

集成电路版图设计5

集成电路的制造需要非常复杂的技术,它主要由半导体物理与器件专业负责研究。VLSI设计者可以不去深入研究,但是有必要了解芯片设计中的工艺基础知识,才能根据工艺技术的特点优化电路设计方案。...
Metal-Etch-Introduction-学行智库

Metal-Etch-Introduction

Contents:1.Introduction of metal etch2.Metal etch defect --Corrosion3.Metal etcher tool introduction4.Common metal etch process trendsP.2
第三章-封装与测试技术ok-学行智库

第三章-封装与测试技术ok

3.1系统封装一、集成电路的封装方法双列直插式(DIP:Dual In-line Package)表面安装封装(SMP:Surface Mounted Package)球型阵列封装(BGA:Ball Grid Arrag)芯片尺寸封装(CSP:Chip Scale Package...
半导体制造工艺流程-学行智库

半导体制造工艺流程

半导体相关知识游傲Y9中国领先的教育培训平台·本征材料:纯硅9-10个92500002.cm·N型硅:掺入V族元素-磷P、砷AS、锑Sb·P型硅:掺入II族元素一镓Ga、硼B·PN结:PN⊕⊕