芯片研发过程介绍
芯片设计公司设计公司或第三方公司应用系统设计芯片可上市销确定芯片要求应用方案开发售开发平台原型开发与验算法设计芯片成测证芯片封装摸拟芯片设计数字代码开发试验证通圆片中测5片验证过过...
医学基础知识必背
客服微信:scp-2490关注微信公众号:考公通关,领取海量资料!①排尿反射;排便反射;分娩过程:②血液凝固过程;胰蛋白酶原激活的过程;14正反馈③排卵前雌二醇引发黄体生成素峰:④动作电位快...
第12章-集成电路的测试与封装
12.1集成电路在芯片测试技术设计错误测试设计错误测试的主要目的是发现并定位设计错误,从而达到修改设计,最终消除设计错误的目的。设计错误的主要特,点是同一设计在制造后的所有芯片中都存在...
新型半导体清洗剂的清洗工艺
778半导体学报23卷的自然氧化膜去掉,以利于去除包埋于氧化层内的2.1HF稀溶液在DGQ系列清洗工艺中的作用金属和有机污染物.为了确定HF稀溶液在DGQ系列清洗工艺中2.2使用条件下清洗剂浓度的选取的...
直径12英寸硅单晶抛光片-
中国集成电路China Integrated Circult创新专栏●硅片的快速热处理技术,实现了硅片表面洁净区厚度在10-170μm间可控。●依靠自主技术,并联合国内相关单位,组织完成了适用于半导体生产的高等...
第02章-半导体制造工艺
提纲中国斜学我术大学University of Science and Technology of China硅制造·光刻技术·氧化物生长和去除·扩散和离子注入·硅淀积和刻蚀·金属化·组装2
半导体封装工艺讲解
IC Process FlowCustomer客户IC DesignSMTIC设计IC组装Wafer FabWafer ProbeAssembly&Test晶圆制造品圆测试IC封装测试
化学机械抛光CMP技术的发展应用及存在问题
2QMP技术无研磨膏QMP、终点检测、自动输送接口、干法清洗QP技术的目的是消除芯片表面的高点及波浪圆片等,同时,对于0.18m或更小图形尺寸的新材形。QMP的基本原理是将圆晶体片在研磨浆(如含有...