3.3通用的ARM微处理器介绍现将几种常用芯片的Samsung S3C44B0X(ARM7TDMI内核)、S3C2410B(ARM920T核)和Intel PXA255/27X(Xscale核)以及Freescale i.MX27微处理器内部结构、特点及功能介绍一下。...

ⅱ目錄第三章微影照像設備3.1緒論…593.2微影照像的方式…603.3主要支援設備和難題…683.4光罩對準儀實例……733.5步進照像機實例…803.6進步的照像設備………873.7參考書目……1043.8習題……1...

高职高专“干二五”电子信息类专亚规划教材半导体制造工艺半中体制造工艺张渊主编⊙机械工业出版社Y CHINA MACHINE PRESSwww.cmpedu.com

SIPIVT晶体结构晶体可分为单晶和多晶，若在整块材料中，原子都是规则的、周期性的重复排列的，一种结构贯穿整体，这样的晶体称为单晶，如石英单晶，硅单晶，岩盐单晶等。多晶是由大量微小的单晶...

AbstractAbstractLiu Hainan (Microelectronics and Solid-State Electronics)Directed by Professor Zhou YumeiAs the design of IC go into larger and faster,the issue about power consump...

216电子工艺技术第27卷第4期子、硅粉粉尘等，造成磨片后的硅片易发生变花、发将磨片分为十组，以上述最佳配比为清洗液超蓝、发黑等现象，使研磨片不合格。硅研磨片清洗的声清洗，按不同的时间分...

组成&结构CPU设计的两种方法：硬布线逻辑控制(hardwired control)微序列控制器(microsequencer)(微序列控制或微程序控制)

12.1集成电路在芯片测试技术设计错误测试设计错误测试的主要目的是发现并定位设计错误，从而达到修改设计，最终消除设计错误的目的。设计错误的主要特，点是同一设计在制造后的所有芯片中都存在...

Outline·Why Calibrate?Calibration Techniques目-Resistor Calibration-RC Time Constant Calibration-VCO Calibration-Automatic Frequency Control (Agile Frequency Offset Calibration)-Q...

EPE电子工业专用设备Equipment for Electronic Products Manufacturing专题报道·水冲洗，依次去除晶圆表面各杂质。半导体湿法清洗工艺中，常用的清洗腐蚀液见从设备方面，自动清洗设备与手动清...