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封装测试工艺教育资料
封装形式DIP:DP、SHD插入实装形SSIP、ZIPPGAFLAT PACK:SOP、QFP、IC PKG表面实装形CHIP CARRIER:SOJ、QFJ、LCC、TABBGA、CSPCOB其他IC CARD2/54
半导体IC清洗技术
制造技术IC电路制造过程中采用金属互连材料将各个独RCA清洗法依靠溶剂、酸、表面活性剂和水,立的器件连接起来,首先采用光刻、蚀刻的方法在在不破坏晶圆表面特征的情况下通过喷射、净化、绝缘...
芯片设计实现介绍
CEC中国电子|大华大电子微电子技术。20世纪最伟大的技术·信息产业最重要的技术进步最快的技术基尔比Jack Kilby)的第一个安置在半导体锗片上的电路取得了成功-“相移振荡器”,世界上第一块集成...
集成电路制造工艺之光刻与刻蚀工艺
ULSI中对光刻的基本要求①高分辨率。通常把线宽作为光刻水平的标志,线宽越来越细,要求光刻具有高分辨率。②高灵敏度的光刻胶。光刻胶的灵敏度通常是指光刻胶的感光速度。光刻胶灵敏度提高,曝...
21-系统芯片与片上通信结构
主要内容>一、芯片的制造和封装>二、系统芯片>三、系统总线和片上总线>四、片上通信结构教材相关章节:《微型计算机基本原理与应用(第二版)》第14章总线及总线标准第7章微处理器的内部结构及...
半导体清洗技术面临变革
方法都来的好,所以目前己经有部分晶圆企业开始评估或少量利用臭氧(Ozoe)来进行晶圆的清洗,但是,因为臭氧之特性为不稳定气体,具强烈腐蚀性及氧化性,所以,Bckr指出,臭氧是一种十分危险的气...
芯片封装测试流程详解
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