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集成电路技术简介-学行智库

集成电路技术简介

2集成电路与微电子材料与物理系统微电子电路广义与狭义器件与工艺集成电路设计工具电路与系统工艺©2014 NJUPTConfidential
CMP-Process-Introduction-学行智库

CMP-Process-Introduction

OutlineCMP OverviewAMAT Tool,Mirra-MesaCMP ConsumableSlurryPolish PadDiamond DiskCMP ProcessSTI,ILD and IMD CMPPoly CMP>Tungsten CMPCopper CMP
半导体单晶和薄膜制造技术-学行智库

半导体单晶和薄膜制造技术

4.1半导体单晶的制造单晶治炼和晶圆制造过程蒸馏与还原起始材料多晶半导体石英岩(高纯硅砂)Si/SiO2晶体生长研磨、切割、地光晶棒晶圆单晶半导体晶锭制造硅的起始材料是一种被称为石英岩的高纯...
半导体晶圆切割-学行智库

半导体晶圆切割

刀片优化(Blade Optimization)为了接收今天新的切片桃战,切片系统与刀片之间的协作是必要的。对于高端high-end应用特别如此。刀片在工艺优化中起主要的作用。为了接纳所有来自于迅速的技术发展...
单晶炉设备行业-学行智库

单晶炉设备行业

大批组件封装企业纷纷涌现,无论是电池生产规模还是组件生产规模,都迅速向世界光伏制造大国迈进,2002年中国光伏制造首次跻身世界10强,电池和组件产量均位居世界第七;2003年中国电池产量和组...
电浆化学气相沉积、溅镀与蚀刻-Plasma-CVD--Sputtering-and-Etching---Principles-and-Technology-学行智库

电浆化学气相沉积、溅镀与蚀刻-Plasma-CVD–Sputtering-and-Etching—Principles-and-Technology

Plasma SchematioA partially ionized gascreated by application of anelectric field.Positiveneutralsion/electron pairs areglow(radicals,unreacted gas)Sheathcreated by ionizationdisch...
半导体芯片制造技术5-学行智库

半导体芯片制造技术5

第一节氧化法制备二氧化硅膜硅暴露在空气中,即使在室温条件下,在表面也能长成一层有40A左右的二氧化硅膜。这一层氧化膜相当致密,同时又能阻止硅表面继续被氧原子所氧化,而且还具有极稳定的...
集成电路封装与测试-第一章-学行智库

集成电路封装与测试-第一章

参考书籍《集成电路芯片封装技术》李可为著,电子工业出版社出版《微电子器件封装-封装材料与封装技术》周良知著,化学工业出版社出版■相关的文献
半导体工业简介-简体中文..-学行智库

半导体工业简介-简体中文..

课程大纲1.叙述目前半导体工业的经济规模与工业基础。2.说明IC结构,并且列出5个积体年代。3.讨论品圆及制造晶圆的5个主要阶段。4.叙述与讨论晶圆制造的改进技术之3项重要趋势。5.说明临界尺寸(...
图形芯片设计全过程-学行智库

图形芯片设计全过程

件设计语言(DL)一般的人都基本上不会接触到,我们在这里只给大家简略的介绍一下:在程序代码的形式上DL和C也没有太大的不同,但他们的实际功能是完全的不同。比如下面这个Verilog语言中非常基本...