半导体芯片制造技术5

第一节氧化法制备二氧化硅膜硅暴露在空气中，即使在室温条件下，在表面也能长成一层有40A左右的二氧化硅膜。这一层氧化膜相当致密，同时又能阻止硅表面继续被氧原子所氧化，而且还具有极稳定的化学性和绝缘性。正因为二氧化硅具有这样的性质，根据不同的需要，人们制备二氧化硅，用来作为器件的保护层和钝化层，以及电性能的隔离，绝缘材料和电容器的介质膜等。