电子 第14页
硅片腐蚀和抛光工艺的化学原理-学行智库

硅片腐蚀和抛光工艺的化学原理

3.二氧化硅-氢氧化钠抛光法二氧化硅-氢氧化钠抛光配置方法有三种:(1)将三氯氢硅或四氯化硅液体用氮气携带通入到氢氧化钠溶液中,产生的沉淀在母液中静置,然后把上面的悬浮液轻轻倒出,并调节p...
新半导体工艺制程教程方法-学行智库

新半导体工艺制程教程方法

半导体相关知识二.半导体前工序介绍三.半导体后工序介绍
化学机械抛光液(CMP)氧化铝抛光液具-学行智库

化学机械抛光液(CMP)氧化铝抛光液具

化学机械抛光液行业研究一、行业的界定与分类(一)化学机械抛光1、化学机械抛光概念化学机械抛光(英语:Chemical-Mechanical Polishing,缩写CMP),又称化学机械平坦化(英语:Chemical-Mechanica...
半导体硅材料研磨液研究进展-学行智库

半导体硅材料研磨液研究进展

广东化工2009年第8期88www.gdchem.com第36卷总第196期悬浮磨料的效果。分散剂的作用机理:这些界面活性剂吸附据文献报道,重金属杂质F©会对硅片造成最严重的重于固体颗粒的表面,使凝聚的固体...
5.-Poly-Etch-Introduction-学行智库

5.-Poly-Etch-Introduction

Outline:Poly process introductionProcess gas introductionPoly etcher introductionRIE introductionPoly chamber introductionP.2
半导体衬底-学行智库

半导体衬底

第一章半导体衬底第二章氧化第三章扩散第四章离子注入第五章光刻第六章刻蚀第七章化学气相沉积第八章化学机械化平坦第九章金属化工艺第十章CMOS工艺流程
测试!芯片测试的意义-学行智库

测试!芯片测试的意义

测试如果故障芯片已经安装到PCB上,可能会造成整个PCB维修甚至更换。这种更换的成本是相当大的·所以,ASIC在出厂前进行完整的测试是相当重要的圆片测试设备非常昂贵·集成块测试设备同样非常昂...
半导体芯片制造技术4-学行智库

半导体芯片制造技术4

第四章晶圆制备第一节晶圆制备工艺一、截断→图4-2截断
切片机张刀对切片质量的影响-45所-学行智库

切片机张刀对切片质量的影响-45所

1.1.2液压张刀的检测通过刀片刃口处径向的变形量可以判断出刀体内的张力和刚性,采用液压张刀方式,刃口处径向变形量可用刀片张力规检测,如图2所示。将刀片张力规安放于刀片刃口处,通过上刀环...
集成电路封装与测试(一)-学行智库

集成电路封装与测试(一)

课程大纲第一章集成电路芯片封装概述基础部分第二章封装工艺流程第三章厚/薄膜技术材料部分第四章焊接材料第五章印刷电路板基板部分第六章元器件与电路板的结合第七章封胶材料与技术封装部分第...