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联发科SDK资料-学行智库

联发科SDK资料

MEDIATEK联发科安卓SDK开发者指南开发者指南目录1介绍..52联发科Android手机技术.62.1 HotKnot无线数据传输..62.2多SIM卡72.3多媒体操作.82.3.1肖像增强功能….82.3.2图像变换.82.3.3高清录音和...
集成电路芯片设计-学行智库

集成电路芯片设计

目录集成电路芯片设计芯片设计前端流程3芯片设计过程分析4晶元初步制造●
半导体-第十四讲-CMP-学行智库

半导体-第十四讲-CMP

硅片的表面起伏问题与解决方案→化学机械平坦化CMPCMP主要影响因素工艺参数因素与选择抛光液相关问题探讨
18微米芯片后端设计的相关技术-学行智库

18微米芯片后端设计的相关技术

DSM Physical Effect Dominance☐interconnect圆Intrinsic80-90%0fTotal Delays1.000.800.500.400.300.25Process GeometryData Courtesy ofToshiba America Electronic Components此外,当进入0...
同步升压芯片设计指南-学行智库

同步升压芯片设计指南

移动电源架构←一充电管理←5VUSB输入LI-BAT5V5V升压过流保护USB输出手电筒键多控(MCU)◆充电管理和升压是基本功能◆可附加手电筒及MCU一键多控功能致新科技股份有限公司Global Mixed-mode Tech...
INTEL系列芯片详细参数-学行智库

INTEL系列芯片详细参数

英特尔865系列一共分了三个类型,分别是自带显卡的865G,不带显卡的865PE和仅支持SB533的865P.865芯片组不象875P一样针对高端市场,但同875P相比,它的功能却并没有缩水多少,它同样支持FSB80OHz...
倒装芯片凸点制作方法-学行智库

倒装芯片凸点制作方法

2003年3月李福泉等:倒装芯片凸点制作方法63倒装芯片钎料凸点对钎料材料选择通常要求有割。化学腐蚀模板比较便宜,但精度不高。电镀和良好的重熔性能,由于其在重熔过程中具有自对准激光切割模...
半导体芯片制造技术5-学行智库

半导体芯片制造技术5

第一节氧化法制备二氧化硅膜硅暴露在空气中,即使在室温条件下,在表面也能长成一层有40A左右的二氧化硅膜。这一层氧化膜相当致密,同时又能阻止硅表面继续被氧原子所氧化,而且还具有极稳定的...
一种基于MEMS技术的压力传感器芯片设计-王大军-学行智库

一种基于MEMS技术的压力传感器芯片设计-王大军

膜片最好,方形次之9.由于方形几何形状对称,很的表面,掺杂浓度不仅影响压阻系数值,而且还影响容易进行晶体切割,且有研究表明在固定面积下,弹压阻系数随温度变化的剧烈程度.当扩散电阻表面...
半导体制程简介-学行智库

半导体制程简介

基本过程·晶园制作-Wafer Creation·芯片制作-Chip Creation·后封装-Chip Packaging