本节提要1嵌入式微处理器概述2ARM体系结构概览3ARM编程模型ARM异常处理2PDF文件使用'pdfFactory Pro”试用版本创建匹fineprint.cn

背景一半导体生产流程石英砂一金属硅多晶拉制单晶棒(本产品研究环节)单晶硅片单晶硅棒Xeon店的样样年年时集成电路集成电路应用太阳能电池太阳能电池应用

通用部分Ⅱ61.Begin-一开始81.Month--月101.WP.-待料62.Oher-其他82.Year-年102.Cycle Time-循环时间63.Setting-设置83.Sensor-传感器103.Material--物料64.Computer-一电脑84.Shuttle-往复装置...

Flow一.大宗氣體供應系統-Bulk Gas Supply System·1.什麼是大宗氣體：一般指用量較大的氣體無色無味無臭，但仍有潛在的危險（部分具室息性）.*CDA(UCCA)/IA-壓縮乾燥空氣/儀器推動空氣/呼吸用...

WAT Introduction1.WAT是什么2.WAT系统介绍3.WAT测试项日及方法

Process Flow1.Wafer start P-typeP-sub2

第8卷第9期电子与封装方式发展.微电子封装将从有封装、少封装向无封装MCM中直接使用裸芯片缩短了用于电路连接方向发展，因此裸芯片封装技术便应运而生。的键合引线长度，使得系统中的通电路径长...

清苇大Tsinghua University§1系统封装半导体器件复杂性和密度的急剧增加推动了更加先进的VLSI封装和互连方式的开发。印刷电路板(printed Circuit Board-PCB)多芯片模块(Multi-.Chip Modules-MC...

封装形式DIP:DP、SHD插入实装形SSIP、ZIPPGAFLAT PACK:SOP、QFP、IC PKG表面实装形CHIP CARRIER:SOJ、QFJ、LCC、TABBGA、CSPCOB其他IC CARD2/54

第一章半导体衬底第二章氧化第三章扩散第四章离子注入第五章光刻第六章刻蚀第七章化学气相沉积第八章化学机械化平坦第九章金属化工艺第十章CMOS工艺流程