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半导体工艺
半导体元件制造过程可分为。前段t(Front End)制程晶圆处理制程(Wafer Fabrication;简称Wafer Fab)晶圆针测制程(Wafer Probe);·後段(Back End)构装(Packaging)、测试制程(Initial Test and Fina...
射频芯片校准设计
Outline·Why Calibrate?Calibration Techniques目-Resistor Calibration-RC Time Constant Calibration-VCO Calibration-Automatic Frequency Control (Agile Frequency Offset Calibration)-Q...
化学机械抛光液(CMP)氧化铝抛光液具
化学机械抛光液行业研究一、行业的界定与分类(一)化学机械抛光1、化学机械抛光概念化学机械抛光(英语:Chemical-Mechanical Polishing,缩写CMP),又称化学机械平坦化(英语:Chemical-Mechanica...
直径12英寸硅单晶抛光片-
中国集成电路China Integrated Circult创新专栏●硅片的快速热处理技术,实现了硅片表面洁净区厚度在10-170μm间可控。●依靠自主技术,并联合国内相关单位,组织完成了适用于半导体生产的高等...
第02章-半导体制造工艺
提纲中国斜学我术大学University of Science and Technology of China硅制造·光刻技术·氧化物生长和去除·扩散和离子注入·硅淀积和刻蚀·金属化·组装2
INTEL经典芯片及主板回顾
Intel810芯片组继成功推出Intel BX之后,ntel便下了大赌注全部投在下一代芯片组产品上,这就是I8l0。I8l0不仅仅是ntel首款整合型芯片组产品,同时也是ntel尝试的新式“固件控制中心”架构式设计...
半导体封装工艺讲解
IC Process FlowCustomer客户IC DesignSMTIC设计IC组装Wafer FabWafer ProbeAssembly&Test晶圆制造品圆测试IC封装测试