半导体 第13页
常用存储器芯片设计指南-学行智库

常用存储器芯片设计指南

AddressesAddresses StableCE#OEMWE#HIGH ZHIGHZOutputsOu中out Valid图2读操作时序下面给出一个MPC860最小系统的应用例子。SST39VF040BAB BDB BCBAB244址总驱BA[31.13]动MPBCDB02458数06BD[0.7...
芯片制造技术-学行智库

芯片制造技术

组成&结构CPU设计的两种方法:硬布线逻辑控制(hardwired control)微序列控制器(microsequencer)(微序列控制或微程序控制)
半导体气体特性及系统介绍-学行智库

半导体气体特性及系统介绍

Flow一.大宗氣體供應系統-Bulk Gas Supply System·1.什麼是大宗氣體:一般指用量較大的氣體無色無味無臭,但仍有潛在的危險(部分具室息性).*CDA(UCCA)/IA-壓縮乾燥空氣/儀器推動空氣/呼吸用...
半导体常用英语-学行智库

半导体常用英语

通用部分Ⅱ61.Begin-一开始81.Month--月101.WP.-待料62.Oher-其他82.Year-年102.Cycle Time-循环时间63.Setting-设置83.Sensor-传感器103.Material--物料64.Computer-一电脑84.Shuttle-往复装置...
封装测试工艺教育资料-学行智库

封装测试工艺教育资料

封装形式DIP:DP、SHD插入实装形SSIP、ZIPPGAFLAT PACK:SOP、QFP、IC PKG表面实装形CHIP CARRIER:SOJ、QFJ、LCC、TABBGA、CSPCOB其他IC CARD2/54
半导体衬底-学行智库

半导体衬底

第一章半导体衬底第二章氧化第三章扩散第四章离子注入第五章光刻第六章刻蚀第七章化学气相沉积第八章化学机械化平坦第九章金属化工艺第十章CMOS工艺流程
电浆化学气相沉积、溅镀与蚀刻-Plasma-CVD--Sputtering-and-Etching---Principles-and-Technology-学行智库

电浆化学气相沉积、溅镀与蚀刻-Plasma-CVD–Sputtering-and-Etching—Principles-and-Technology

Plasma SchematioA partially ionized gascreated by application of anelectric field.Positiveneutralsion/electron pairs areglow(radicals,unreacted gas)Sheathcreated by ionizationdisch...
WAT测量项目以及测试方法-学行智库

WAT测量项目以及测试方法

WAT Introduction1.WAT是什么2.WAT系统介绍3.WAT测试项日及方法
CMOS-Process-Flow-Customer-学行智库

CMOS-Process-Flow-Customer

Process Flow1.Wafer start P-typeP-sub2
裸芯片封装技术的发展与挑战-学行智库

裸芯片封装技术的发展与挑战

第8卷第9期电子与封装方式发展.微电子封装将从有封装、少封装向无封装MCM中直接使用裸芯片缩短了用于电路连接方向发展,因此裸芯片封装技术便应运而生。的键合引线长度,使得系统中的通电路径长...