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影响倒角加工效率的工艺研究-康洪亮-学行智库

影响倒角加工效率的工艺研究-康洪亮

我们单位自动倒角机最多的是大途株式会社的WBM-2200倒角机,其加工步骤是:取片→测厚→对中→移载到倒角吸盘→倒角→移载到甩干吸盘→甩干→测直径对位→放回花栏。其中取片测厚对中移载等加工...
图形芯片设计全过程-学行智库

图形芯片设计全过程

件设计语言(DL)一般的人都基本上不会接触到,我们在这里只给大家简略的介绍一下:在程序代码的形式上DL和C也没有太大的不同,但他们的实际功能是完全的不同。比如下面这个Verilog语言中非常基本...
半导体问答-学行智库

半导体问答

答:After Etching Inspection蚀刻后的检查AEI目检Wafer须检查哪些项目:答:(1)正面颜色是否异常及刮伤(2)有无缺角及Particle(3)刻号是否正确金属蚀刻机台转非金属蚀刻机台时应如何处理?答:...
芯片生产工艺流程-学行智库

芯片生产工艺流程

显影、蚀刻、离子植入、金属溅镀等反复步骤,最终在晶圆上完成数层电路及元件加工与制作。2、晶圆针测工序:经过上道工序后,晶圆上就形成了一个个的小格,即晶粒,一般情况下,为便于测试,提...
硅片腐蚀和抛光工艺的化学原理-学行智库

硅片腐蚀和抛光工艺的化学原理

3.二氧化硅-氢氧化钠抛光法二氧化硅-氢氧化钠抛光配置方法有三种:(1)将三氯氢硅或四氯化硅液体用氮气携带通入到氢氧化钠溶液中,产生的沉淀在母液中静置,然后把上面的悬浮液轻轻倒出,并调节p...
化学机械抛光液(CMP)氧化铝抛光液具-学行智库

化学机械抛光液(CMP)氧化铝抛光液具

化学机械抛光液行业研究一、行业的界定与分类(一)化学机械抛光1、化学机械抛光概念化学机械抛光(英语:Chemical-Mechanical Polishing,缩写CMP),又称化学机械平坦化(英语:Chemical-Mechanica...
半导体晶圆切割-学行智库

半导体晶圆切割

刀片优化(Blade Optimization)为了接收今天新的切片桃战,切片系统与刀片之间的协作是必要的。对于高端high-end应用特别如此。刀片在工艺优化中起主要的作用。为了接纳所有来自于迅速的技术发展...
中芯国际集成电路制造有限公司市场分析-学行智库

中芯国际集成电路制造有限公司市场分析

2004年3月中芯在美国纽约证券交易所和香港联合交易所同时挂牌上市2005年3月四厂量产2006年1月九厂量产,中芯获索尼绿色伙伴认证2006年3月中芯获绿色产品管理体系认证,成都封装测试厂量产2007年...
冰冻切片的制备-学行智库

冰冻切片的制备

冰冻组织1一2分钟,切片1分钟,固定1分钟,染色共五分钟。总共在10分钟内完成快速制片过程,结果与石蜡切片不相上下。冰冻切片的方法还有很多种,如甲醇循环的半导体冰冻切片法,二氧化碳冰冻切...
芯片测试的几个术语及解释-学行智库

芯片测试的几个术语及解释

FT:device level的电路测试含功能CP=chip probingFT=Final TestCP一般是在测试晶圆,封装之前看,封装后都要FT的。不过bump wafer是在装上锡球,probing后就没有FTFT是在封装之后,也叫“终测”...