2004年3月中芯在美国纽约证券交易所和香港联合交易所同时挂牌上市2005年3月四厂量产2006年1月九厂量产，中芯获索尼绿色伙伴认证2006年3月中芯获绿色产品管理体系认证，成都封装测试厂量产2007年...

第三步：晶圆涂膜波照就是在原始的硅晶片表面增川一层由望化硅Si02)构成的绝涤层，类似铁生锈的过程，这样通过cU就能哆导申了。通常工艺是将每一个切少放入高温炉中加热，通过控制加温时间而使...

半导体相关知识二.半导体前工序介绍三.半导体后工序介绍

一.产品构架高通汉字输入法中外文汉字显示字库芯片LCM模组MCU标准点阵GT三维部件字库芯片输入法智能曲线GT快捷拼音字库芯片输入法二.主打产品一点阵字库芯片GT2X系列所处的行业：集成电路电子产...

4.1半导体单晶的制造单晶治炼和晶圆制造过程蒸馏与还原起始材料多晶半导体石英岩（高纯硅砂）Si/SiO2晶体生长研磨、切割、地光晶棒晶圆单晶半导体晶锭制造硅的起始材料是一种被称为石英岩的高纯...

参考书籍《集成电路芯片封装技术》李可为著，电子工业出版社出版《微电子器件封装-封装材料与封装技术》周良知著，化学工业出版社出版■相关的文献

从“沙子”到“黄金”一一图解芯片制作工艺流程sa新浪科技ntel Activeinter第一步：制造晶棒（也就是硅锭）VirtualizabionTechnologyinteD将收集到的精度硅原料在高温下整形，采用旋转拉CNROF伸...

Ⅲ族元素，如硼、铝等，就会形成P型导电材料。拉制单晶的电阻率值是由被选择的参杂元素的掺入量来确定的，惨杂元素的惨入量越大，单晶的电阻率越低，掺入量很大的低电阻率单晶，称为重渗硅单晶...

根据摩尔定律，CPU的速度应该每过18个月翻一番.在过去的几十年中，CPU的速度以一个令人意想不到的速度上升，在这当中每年性能的提升可以达到58%之多。可是自从1996年以后，CPU速度上升的步伐似...

切片过程的评估■定向的准确性切割出的硅片最小厚度、厚度均匀性■表面参数一平整性，弯（翘）曲度，碎裂■结构参数—损伤层（如晶格畸变)，应力分布~30um洁净性（加工带来的污染）—金属、有机...