300mm硅单晶及抛光片标准

一、300mm硅单晶及抛光片现状300mm硅抛光片的产品、工艺技术在国外已经很成熟。而在我国起步较晚，还处于试验阶段。因此对于集成电路所需的300mm硅片的基本参数指标、金属污染和缺陷控制、表面形态与质量、成本等都面临着新的挑战。硅材料的生产工艺、技术、检测方法已成为今后研究的主要内容，同时也是推动产业发展的关键所在。随着300mm硅单晶及抛光片的诞生，我们也面临一个制定相应的国家标准的问题。