抛光技术及抛光液

蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性，在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤。可以应用在蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研磨和抛光」蓝宝石研磨液在蓝宝石衬底方面的应用：1.外延片生产前衬底的双面研磨：多用蓝宝石研磨液研磨一道或多道，根据最终蓝宝石衬底研磨要求用6um、3um、1um不等。2.ED芯片背面减薄为解决蓝宝石的散热问题，需要将蓝宝石衬底的厚度减薄，从450m左右减至100nm左右。主要有两步：先在横向减薄机上，用50-70um的砂轮研磨磨去300um左右的厚度；再用抛光机（秀和、NTS、WEC等）针对不同的研磨盘（锡/铜盘)，采用合适的蓝宝石研磨液（水/油性）对芯片背面抛光，从150m减至100nm四左右。三、蓝宝石抛光液蓝宝石抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。蓝宝石抛光液主要用于蓝宝石衬底的抛光。还可广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。蓝宝石抛光液的特点：1.高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的。2.高纯度(Cu含量小于50ppb),有效减小对电子类产品的沾污。3.高平坦度加工，蓝宝石抛光液是利用S02的胶体粒子进行抛光，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工。蓝宝石抛光液根据p州值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。蓝宝石抛光液的型号：碱性型号(pH:9.8±0.5)：S0Q-2A、S0Q-4A、S0Q-6A、S0Q-8A、S00-10A、SOQ-12D酸性型号(pH:2.8±0.5)：AS0Q-2A、AS0Q-4A、AS0Q-6A、AS0Q-8A、AS0Q-10A、ASOQ-12D