前课回顾1、气密性封装定义与近气密性封装气密性封装是指完全能够防止污染物的侵入和腐蚀的封装形式；介于Full-Non:材料不同、工艺相同2、气密性封装常用材料陶瓷、金属、玻璃3、金属气密性封装...

提纲>计算机科学发展的动力，一部分来自计算机理论的发展，但主要来自集成电路芯片性能的大幅提高。√集成电路芯片性能提高大致符合摩尔定律，即处理器(CPU)的功能和复杂性每年（其后期减慢为18...

晶圆制造总的工艺流程芯片的制造过程可概分为晶圆处理工序(Wafer Fabrication)、晶圆针测工序(Wafer Probe)、构装工序(Packaging)、测试工序(Initial Test and Final Test)等几个步骤。其中晶圆...

半导体制造技术Semiconductor Manufacturing Technology本书旨在介绍半导体集成电路产业中最新的工具和技术，以便提高读者在工作过程中理解与使用相同或类似工具的能力。全书在细节上覆盖了用于...

SubthresholdGate LeakageLeakageGateSourceDrainn土Reverse BiasedJunction BTBTBulk50%Must stop40%at50%30%20%10%0%一◆◆◆↓◆一1.510.70.50.350.250.180.130.090.070.05Technology (u)芯...

移动电源架构←一充电管理←5VUSB输入LI-BAT5V5V升压过流保护USB输出手电筒键多控(MCU)◆充电管理和升压是基本功能◆可附加手电筒及MCU一键多控功能致新科技股份有限公司Global Mixed-mode Tech...

主要内容>一PVD薄膜沉积的基本原理>二PVD薄膜沉积各种方式的比较>三PVD薄膜沉积中常见问题>四PVD薄膜的表征>五纳米加工平台现有设备介绍中种院景州的来所（筹）www.sinano.ac.cn

imart360震坤行Introduction of IC Assembly ProcessIC封装工艺简介Al right reserved Shanghai Imart 360

微电子学：Microelectronics>微电子学—微型电子学>核心—集成电路>关键词：氧化，扩散，光刻，刻蚀，离子注入；MOSFET6然北京大学

目录·第一章：半导体产业介绍·第二章：器件的制造步骤·第三章：晶圆制备第四章：芯片制造·第五章：污染控制·第六章：工艺良品率