学生专用筛选
学习&模板
文档类型
排序
集成电路版图设计5
集成电路的制造需要非常复杂的技术,它主要由半导体物理与器件专业负责研究。VLSI设计者可以不去深入研究,但是有必要了解芯片设计中的工艺基础知识,才能根据工艺技术的特点优化电路设计方案。...
第三章-集成电路的制造工艺
为何要介绍1C制造工艺?(1)集成电路设计人员虽然不需要直接参与集成电路的工艺流程和掌握工艺的细节,但了解集成电路制造工艺的基本原理和过程,对于集成电路设计大有裨益。(2)这些工艺可应用于...
集成电路制造工艺之光刻与刻蚀工艺
ULSI中对光刻的基本要求①高分辨率。通常把线宽作为光刻水平的标志,线宽越来越细,要求光刻具有高分辨率。②高灵敏度的光刻胶。光刻胶的灵敏度通常是指光刻胶的感光速度。光刻胶灵敏度提高,曝...
集成电路封装与测试(一)
课程大纲第一章集成电路芯片封装概述基础部分第二章封装工艺流程第三章厚/薄膜技术材料部分第四章焊接材料第五章印刷电路板基板部分第六章元器件与电路板的结合第七章封胶材料与技术封装部分第...
芯片封装详细图解
LogoIC Process Flow■Customer客户IC DesignSMTIC设计IC组装Wafer FabWafer ProbeAssembly&Test晶圆制造晶圆测试IC封装测试www.1ppt.comCompany Logo
内圆切片机设计
计划于2005年前,先行完成4条8~12英寸晶圆生产线,以实现年产240万片,产能1.1亿平方英寸的生产目标。以上项目的建设,为硅材料加工行业提供了广阔的市场。以上海规划年产240万片为例,240万片...
半导体装用设备简介
(接前页)广散炉描杂工艺设备离子注入机中间测试设备探针测试台晶片减薄机划片机粘片机组装与封装设备号线建合机塑封玉机,陶瓷鞋封装连式炉成品测侧试设备IC视侧试系统图2.2一半导体与集成电路...
MEMS工艺(3半导体工艺)扬卫
微米纳米枝术研究中心DRIVERSIInstitute of Micro and Nano Technology永主要内容>掺杂技术、退火技术>表面薄膜制造技术>光刻技术>金属化技术>刻蚀技术>净化与清洗>接触与互连>健合、装配和封装...
华为海思芯片
球所有主流频段,就是实现在全球100多个国家的无缝漫游。新推出的麒麟处理器全面采用SoC(System on Chip,片上系统)架构,即在单个芯片上集成中央处理器、通信模块、音视频解码以及外围电路等一...
基于DSP芯片设计的一种波形发生器
mmregsglobal mainsectMAIN'main:stm#TAB,ARO;指向表头tm#167H,AR3:设定循环次数HI PULSE:ssbx xfstm #20H,AR5NOPL00P1:NOPBANZ LOOP1,*AR5-;delay1NOPportw *ar0+,8h al--cs 60ns,a2--r/w 60ns...