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半导体晶圆的生产工艺流程介绍
由于硅的硬度非常大,所以在本工序里,采用环状、其内径边缘镶嵌有钻石颗粒的薄片锯片将晶棒切割成一片片薄片。5圆边(Edge Profiling】由于刚切下来的晶片外边缘很锋利,硅单晶又是脆性材料,为...
华为海思芯片
球所有主流频段,就是实现在全球100多个国家的无缝漫游。新推出的麒麟处理器全面采用SoC(System on Chip,片上系统)架构,即在单个芯片上集成中央处理器、通信模块、音视频解码以及外围电路等一...
基于DSP芯片设计的一种波形发生器
mmregsglobal mainsectMAIN'main:stm#TAB,ARO;指向表头tm#167H,AR3:设定循环次数HI PULSE:ssbx xfstm #20H,AR5NOPL00P1:NOPBANZ LOOP1,*AR5-;delay1NOPportw *ar0+,8h al--cs 60ns,a2--r/w 60ns...
冰冻切片的制备
冰冻组织1一2分钟,切片1分钟,固定1分钟,染色共五分钟。总共在10分钟内完成快速制片过程,结果与石蜡切片不相上下。冰冻切片的方法还有很多种,如甲醇循环的半导体冰冻切片法,二氧化碳冰冻切...
Intel-915与925芯片介绍(中文)
总体架构图PConline.com.cn915P北桥芯片Intel925X、Intel915G/P都具有一系列新功能,例如支持双通道DDR2内存、集成新型GPU Intel GMA9O0、能够高速和GPU连接的PCI Express x16总线、更高保真度...
晶圆制造工艺流程
晶圆制造总的工艺流程芯片的制造过程可概分为晶圆处理工序(Wafer Fabrication)、晶圆针测工序(Wafer Probe)、构装工序(Packaging)、测试工序(Initial Test and Final Test)等几个步骤。其中晶圆...
硅片腐蚀和抛光工艺的化学原理
3.二氧化硅-氢氧化钠抛光法二氧化硅-氢氧化钠抛光配置方法有三种:(1)将三氯氢硅或四氯化硅液体用氮气携带通入到氢氧化钠溶液中,产生的沉淀在母液中静置,然后把上面的悬浮液轻轻倒出,并调节p...
晶圆及芯片测试
SubthresholdGate LeakageLeakageGateSourceDrainn土Reverse BiasedJunction BTBTBulk50%Must stop40%at50%30%20%10%0%一◆◆◆↓◆一1.510.70.50.350.250.180.130.090.070.05Technology (u)芯...
CPU芯片测试技术
目录第一章CPU芯片封装概述1.1集成电路的发展……41.1.1世界集成电路的发展….41.1.2我国集成电路的发展….….51.1.3CPU芯片的发展…61.2CPU构造原理….101.3,1CPU工作原理….111.3.2CPU的工作...
芯片测试的几个术语及解释
FT:device level的电路测试含功能CP=chip probingFT=Final TestCP一般是在测试晶圆,封装之前看,封装后都要FT的。不过bump wafer是在装上锡球,probing后就没有FTFT是在封装之后,也叫“终测”...